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云熙音圈电机在光刻机行业的应用
发布日期:2022-10-26
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作者:小编
光刻机又名掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System。一般要经过硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
光刻工艺最主要的工件就是掩模和基片。光刻机掩模台系统中音圈电机运动工况分为扫描和定位运动,其中扫描运动主要完成硅片曝光,该运动对定位精度及速度稳定性有极高要求,稳定基础上追求快速。然而,在扫描运动过程中,频繁加减速会冲击系统机械框架,影响光刻机定位精度,因此,合理规划扫描轨迹至关重要。
音圈电机是一种直接驱动型电机,通常采用无铁芯的机械结构,这样的结构给运动控制带来诸多优点。由于没有铁芯,在电枢电流变化时可以认为没有剩磁,音圈电机的输出推力正比于电枢,线性度高。因此可以做到推力平稳、光滑,适用于力控制模式和推力调节模式。无铁芯机构也使动子惯量小,较之传统电机,有较高的伺服带宽。由于音圈电机在应用中不需传动设备,使其工作中所受摩擦力仅来自于导轨。这使得音圈电机系统具有较低的阻尼比。
在其他的生产行业中,凡是对速度要求高,负载不大的场合,均适用于音圈电机的应用。如电子元器件的生产,电路板上元件的焊接,MEMS器件的装配,LED的生产工艺过程,如点胶、焊线、分装、检测等。总之,市场对高速伺服运动设备需求旺盛,而能满足市场需求的成熟产品种类相对匮乏。研制这样一种符合市场需求的产品有着广阔的应用前景。